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微奈米科技研究中心 Center for Micro/Nano Science and Technology, CMNST
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分類清單
最後更新日期   
2015-07-28

2015奈米製程Summer Program

A. 電漿蝕刻製程與3D-IC產業新訊
  本課程將簡介半導體製程中需要使用的蝕刻方式,並深入介紹電漿蝕刻的機制與非理想效應,此外將提供3D-IC的產業新訊:
  半導體的製程已經達成16 nm/14 nm的量產,未來幾年內將會遭遇困難的製程障蔽7 nm,難道Moore's law會就此打住嗎?工程界利用3D堆疊的方式,提出了超越摩爾定律的做法(More than Moore),其中正在開發的關鍵技術為矽通孔(Through-silicon via, TSVs)的能力,需要仰賴電漿蝕刻來完成TSV孔洞。

 

B. 電子束奈米微影製程與產業新訊
  本課程將介紹最新奈米微影製程技術(浸潤式曝光、EUV與電子束微影),並深入介紹電子束微影的製程概念,包含造成圖案接縫(stitching)之關鍵因素分析與非理想效應。
 

l 招收人數:AB課程各25

l 上課日期:

A. 201585日,星期三,14:00 ~ 17:00(電漿蝕刻製程與3D-IC產業新訊)

B. 201586日,星期四,9:00 ~ 12:00(電子束奈米微影製程與產業新訊)

l 上課地點:成功大學自強校區科技大樓4F 9064

l 學費/繳費方式:AB課程各為學界500元、業界800元,報到時現場繳費。

l 報名截止日期:2015730

 

Mix & Match奈米尺度微影對準實作教學
  本課程將教學如何利用電子束微影技術進行多層圖案的對準,可應用於大尺寸(um圖案)與小尺寸(nm圖案,如奈米碳管)的圖形整合(如電路連結)

 

l 招收對象/人數:具電子束微影操作資格者/6

l 上課日期:2015827日,星期四,14:00 ~ 17:00

l 上課地點:成功大學自強校區儀器設備大樓B1無塵室

l 學費/繳費方式:學界2000元、業界3000元,報到時現場繳費。

l 報名截止日期:2015820

l 聯絡專員:06-275757531380202 林丹琪 walin@mail.ncku.edu.tw

 

課程別:
A. 電漿蝕刻製程與3D-IC產業新訊  
B. 電子束奈米微影製程與產業新訊  
Mix & Match奈米尺度微影對準實作教學  
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活動花絮
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本中心前中心副主任廖峻德教授榮膺科技部駐歐盟兼比利時代表處科技組科技參事,

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